汚染に関する情報
設置場所では空気環境 (空気品質) および汚染レベルについて考慮する必要があります。
単独、あるいは湿度や気温など他の環境要因との組み合わせで活性化する浮遊微小粒子 (金属片や素粒子を含む) や反応性ガスは、FlashSystem A9000R システム のハードウェアにリスクをもたらす可能性があります。 過度の粒子レベルや高濃度の有害ガスによって発生するリスクの中には、FlashSystem A9000R システム の誤動作や完全な機能停止の原因となり得る損傷も含まれます。 以下の仕様では、このような損傷を防止するために設定された 粒子とガスの制限について説明しています。以下の制限を、絶対的な制限としてみなしたり、あるいは使用してはなりません。温度や大気中の湿気など他の多くの要因が、粒子や環境腐食性およびガスの汚染物質移動のインパクトに影響することがあるからです。
本書で説明されている具体的な制限がない場合は、人体の健康と安全の保護を脅かすことのない微粒子とガスのレベルを維持するよう、実践していく必要があります。 お客様の環境の微粒子あるいはガスのレベルが FlashSystem A9000R システム 損傷の原因であると IBM® が判断した場合、IBM は、FlashSystem A9000R システム の修理あるいは交換の条件として、 かかる環境汚染を改善する適切な是正措置の実施を求める場合があります。 かかる是正措置は、お客様の責任で実施していただきます。
- ガス汚染
- ANSI/ISA 71.04-19851、これには、銅の腐食試片の反応率は 1 カ月当たり 300 オングストローム (Å/月、≈ 0.0039 μg/cm2時間当たりの質量増量) 未満でなければならないと規定されています2。 また、銀の腐食試片の反応率は 300 Å/月 (≈ 0.0035 μg/cm2時間当たりの質量増量) 未満でなければならないと規定されています3。ガスの腐食性の反応監視は、空気吸い込み口側ラック前面の約 5 cm (2 インチ)、床上のフレーム高の 4 分の 1 から 4 分の 3 の点で行う必要があります。 ラックへの通常の吸気の配分を変更する、特殊なエアー・ハンドリング装置を備えた環境の場合は、ラック上の空気の流入率が最も高い場所で、ガスの腐食性の反応監視を行う必要があります。
- 粒子汚染
- データ・センターは ISO 14644-1 クラス 8 のレベルの清浄度を満たしている必要があります。エアサイド・エコノマイザー (外気冷房) のないデータ・センターの場合、以下のろ過方式のいずれかを選択して ISO 14644-1 クラス 8 清浄度を満たすことができます。
- MERV 8 フィルターを使用して室内の空気を連続的にろ過できます。
- データ・センターに入る空気は MERV 11 フィルター、または MERV 13 フィルター (こちらのほうが望ましい) を使用してろ過できます。
エアサイド・エコノマイザーのあるデータ・センターの場合、ISO クラス 8 清浄度を達成するフィルターの選択は、そのデータ・センター固有の条件により異なります。 粒子汚染の融解性相対湿度は、60% RH を超えていなければなりません4. データ・センターでは亜鉛ウィスカーがあってはなりません5.