「側寫監視器」視圖

每當您啟動本端或遠端 Java 程序時,「側寫監視器」視圖中都會顯示一個專案,且已備妥側寫所需的所有其他資源。

「側寫監視器」視圖會顯示在側寫階段作業期間所建立的側寫資源。這些資源會組織在以專案為根的樹狀結構中:

  1. 專案和資料夾 「專案」圖示 「資料夾」圖示
  2. 監視器「監視器」圖示
  3. 主機 「主機」圖示
  4. 程序「程序」圖示
  5. 代理程式(側寫和記載) 「代理程式已終止」圖示 「代理程式已暫停」圖示 「代理程式已分離」圖示 「代理程式監視中」圖示
  6. 已選取的側寫過濾器集 「記憶體洩漏」圖示 「分析執行時間」圖示 「方法涵蓋面」圖示

您可以將側寫資源保留在任何類型的專案或資料夾中。 除了專案之外,側寫物件與工作台資源沒有直接關係。

在您側寫好應用程式之後,您可以從「側寫監視器」視圖中的任何側寫資源來開啟各種「側寫和記載」視圖,如圖例所示。 這個視圖中的階層式資源層次決定了這些視圖所顯示的資訊類型。 比方說,從監視器而不是從代理程式開啟「側寫和記載」視圖,可以提供您這個監視器下包含的所有側寫資料之整體聚集視圖。 從監視器層次開啟的視圖可讓您檢視多個主機、程序和代理程式的資料。

每當您啟動或連接至 Java 程序時,都會在「側寫監視器」視圖中建立這個 Java 程序的邏輯表示法。 這個程序物件表示法由名稱和 ID 號碼 (PID) 來識別,它們會隨著相關聯的代理程式出現在視圖中。 代理程式會收集 Java 程序的側寫資料,且這份資料可供分析。

當您選取「側寫和記載」視景時,即會啟動「側寫監視器」視圖。請利用這個視圖來管理側寫活動。

請參閱「側寫監視器」視圖控制項主題,以取得這個視圖的控制項相關資訊。

相關概念
側寫工具概觀
「側寫主控台」視圖

相關作業
側寫應用程式

相關參照
側寫資源