側寫集和可用的視圖

下表彙總如何利用不同的側寫集來產生不同的側寫視圖,供分析之用。

側寫集 所選的選項 可用的視圖
分析記憶體/洩漏 N/A 「套件統計值」視圖「類別統計值」視圖「物件參照」視圖*
分析記憶體洩漏 選取「實例層次資訊」勾選框 「套件統計值」視圖「類別統計值」視圖實例統計值「物件參照」視圖*
分析執行時間 顯示執行統計值(壓縮資料) 「套件統計值」視圖「類別統計值」視圖「方法統計值」視圖涵蓋面統計值
分析執行時間 顯示執行圖形詳細資料 「套件統計值」視圖「類別統計值」視圖「方法統計值」視圖涵蓋面統計值「執行流程」視圖「UML2 序列圖」視圖(物件、類別、執行緒)
分析執行時間 顯示實例層次資訊、顯示執行圖形詳細資料 「套件統計值」視圖「類別統計值」視圖「方法統計值」視圖實例統計值涵蓋面統計值「物件參照」視圖*「執行流程」視圖「UML2 序列圖」視圖(物件、類別、執行緒)
方法程式碼涵蓋面 N/A 「套件統計值」視圖「類別統計值」視圖「方法統計值」視圖涵蓋面統計值

* 附註:對於「物件參照」視圖,您必須確定已啟用收集物件參照,才能利用「物件參照」視圖來檢視側寫資料。

 

相關概念
側寫工具概觀
側寫資源

相關作業
側寫應用程式
識別記憶體洩漏 
收集物件參照

相關參照
「物件參照」視圖控制項