指定側寫集和建立側寫過濾器可讓您指定要分析的資訊子集。 側寫集用來指定要收集的資料類型,過濾器用來確保視圖只會顯示相關的詳細資料。 如果速度和效率十分重要,使用過濾器會特別有用:資料越少,對系統的影響越低, 收集的速度就越快。
必備條件:
應用程式側寫準則的配置可分成下列各節:
側寫類型 | 所選的選項 | 可用的視圖 | 應用程式 |
---|---|---|---|
記憶體分析 | N/A | 「記憶體統計資料」視圖(套件、類別、方法), 「物件參照」視圖* | 記憶體洩漏分析,識別記憶體密集的類別 |
記憶體分析 | 選取「進階」>「實例層次資訊」勾選框 | 「記憶體統計資料」視圖(套件、類別、方法、實例) 「物件參照」視圖* | 記憶體洩漏分析,研究記憶體回收 |
時間分析 | 顯示執行統計資料(壓縮資料) | 執行統計資料(套件、類別、方法) 涵蓋面統計資料 | 檢視方法的呼叫 |
時間分析 | 顯示執行統計資料(壓縮資料),進階 > 收集實例層次資訊 | 執行統計資料(套件、類別、方法、實例) 涵蓋面統計資料 | 檢視每一個實例的套件、類別和方法統計值,檢視方法的呼叫 |
時間分析 | 顯示執行圖形詳細資料 | 執行統計資料(套件、類別、方法), 涵蓋面統計資料, 「執行流程」視圖, 「UML2 序列圖」視圖(物件、類別、執行緒) | 識別作用中的執行緒,識別程式執行的階段 |
時間分析 | 顯示執行圖形詳細資料,進階 > 收集實例層次資訊 | 執行統計資料(套件、類別、方法、實例),涵蓋面統計資料, 「物件參照」視圖*, 「執行流程」視圖, 「UML2 序列圖」視圖(物件、類別、執行緒) | 識別作用中的執行緒,識別程式執行的階段 |
程式碼涵蓋面 | N/A | 涵蓋面統計資料(套件、類別、方法) | 檢視程式碼涵蓋面 |
* 附註:對於「物件參照」視圖,您必須呼叫收集物件參照動作進行收集物件參照,才能利用「物件參照」視圖來檢視側寫資料。您可以從「側寫監視器」視圖的工具列或用滑鼠右鍵按一下「側寫監視器」視圖中的代理程式,來呼叫收集物件參照。
您可以指定方法呼叫限制或時間限制來指定您要收集的資料量。
您可以指定專案以及用來側寫階段作業的監視器。 您也可以將側寫資料寫入檔案中。
相關概念
側寫工具概觀
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